河北氧化铌靶材东同光电有着多年的靶材经验，下面说说高密度氧化铌溅射靶材的制备方法。
技术领域：
本发明涉及粉末冶金技术，同时属于溅射镀膜靶材生产技术领域，是ー种高密度氧化铌溅射靶材的真空热压制备方法。
背景技术：
五氧化ニ铌具有三种变体，不同的变体，晶体结构不同，故其晶格常数和性质都有明显的差別。五氧化ニ铌由于其独特的物理和化学性质而被广泛地应用于现代技术的许多领域。利用其较强的紫外吸收能力，可用作紫外敏感材料的保护膜；利用其薄膜折射率较高，与SiO2等配合可制备具有不同折射率的薄膜。由于五氧化ニ铌具有以上的特点它被用于光学干涉滤波器电化色薄膜和气体传感器等。本发明的Nb2O5靶材主要通过磁控溅射法制备等离子显示器彩色滤光膜，用来提高等离子显示器的亮度和可视角度，是等离子显示器重要的镀膜材料之一。氧化铌溅射靶材要求高密度、高纯度。靶材密度低，靶材内必然存在气孔，在溅射过程中，气孔周围最容易产生节瘤，直接影响镀膜的质量。高密度的靶材溅射速率高、寿命较长，镀膜的质量优异；且大大提高生产率，降低生产成本。氧化铌溅射靶材的制备エ艺主要分为ニ种热等静压エ艺(HIP)、热压エ艺(HP)，HIP—般生产周期较长，设备昂贵，生产成本较高；HP生产周期短，设备投资小，エ艺简単。中国专利公开号CN 1951873A公开了ー种氩气保护，热压氧化铌溅射靶材的方法在温度950 1800°C，压カ15 40MPa下保温保压40min。靶材的密度为3. 56 g/cm3。采用热等静压エ艺制备氧化铌溅射靶材，靶材密度达到4. 50g/cm3以上。
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